PVD 退鍍處理方法 ~ 符合歐盟REACH規範 ~
取代噴砂處理 ! 化學退鍍對於大批量工件較為迅速、有效 !
PVD是指在真空環境下，將欲鍍物質以氣體或等離子型態沉積在工件上。由於實用性廣，鍍膜有良好的耐磨與耐化性，也可應用於相當多領域，包含光學、電子、半導體等。而部分工件因重工需求，或周邊零件去將鍍層退除以重新使用，即會需要退鍍的工序。
三種處理比較
| 處理方式 | 更換新零件 | 噴砂處理 | 化學退鍍 |
| 對該零件影響 | 全新零件 | 零件有變形、耗損、破壞的可能 | 無特別影響 |
| 對生產環境影響 | 無影響 |
殘留的粉末對於真空鍍膜設備、無塵室產生污染 |
處理後用水清洗並乾燥，無環境汙染可能性。 |
| 成本 | 高 | 低 | 中 |
| 人力 | 低 | 高 | 中 |
光學鉬電極板去鍍膜
工件: 鉬電極板
目的: 因多次鍍膜程序，鍍膜累積在表面，希望退鍍後可以重複使用，降低成本。
條件: Controx E 230 100%原液，加溫至90oC，反應15分鐘。
結果: 退鍍後，經簡單去離子水沖洗，可出現鉬板金屬原色。
退鍍前
退鍍後
真空電鍍不鏽鋼件退鍍
工件: 不鏽鋼件
目的: 處理重工件，若可完整退鍍，即可重新鍍膜。
條件: Controx E 230 100%原液，加溫70oC，反應30分鐘。
結果: 退鍍後，使用去離子水做簡單清洗，可看到不鏽鋼金屬原色，後續可再重工。
退鍍前
退鍍後
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